一、鑄造廠內(nèi)部不完整的檢測(cè)

對(duì)于鑄造廠內(nèi)部容易出現(xiàn)的問題，常用的無損檢測(cè)方法是超聲檢測(cè)和射線檢測(cè)。其中射線檢測(cè)效果，它能夠反映內(nèi)部不足之處種類、形狀、大小和分布情況的直觀圖像，但對(duì)于大厚度的大型

鑄件，超聲檢測(cè)是很的，可以比較地測(cè)出內(nèi)部不足之處的位置、當(dāng)量大小和分布情況。

1、鑄造廠之超聲檢測(cè)

超聲檢測(cè)也可用于檢查鑄造廠的內(nèi)部不足之處，它是利用在鑄件內(nèi)部的高頻聲能的聲束傳播而檢查，碰到內(nèi)部表面或不足之處時(shí)產(chǎn)生反射而發(fā)現(xiàn)不足之處。反射聲能的大小是內(nèi)表面或不足之處的指向

性和性質(zhì)以及這種反射體的聲阻抗的函數(shù)，因此可以應(yīng)用各種不足之處或內(nèi)表面反射的聲能來檢測(cè)不足之處的存在位置、壁厚或者表面下不足之處的。超聲檢測(cè)作為一種應(yīng)用比較廣泛的無損檢測(cè)手

段，其主要優(yōu)勢(shì)表現(xiàn)在：檢測(cè)，可以探測(cè)細(xì)小的裂紋；具有大的穿透能力，可以探測(cè)厚截面鑄件。其主要局限性在于：對(duì)于輪廓尺寸復(fù)雜和指向性不好的斷開性不足之處的反射波形解釋困難；

對(duì)于不合意的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，例如晶粒大小、組織結(jié)構(gòu)、多孔性、夾雜含量或細(xì)小的分散析出物等，同樣妨礙波形解釋；另外，檢測(cè)時(shí)需要參考標(biāo)準(zhǔn)試塊。

2、鑄造廠之射線檢測(cè)（微焦點(diǎn)XRAY）

鑄造廠射線檢測(cè)，一般用X射線或γ射線作為射線源，因此需要產(chǎn)生射線的設(shè)備和其他附屬設(shè)施，當(dāng)工件置于射線場(chǎng)照射時(shí)，射線的輻射強(qiáng)度就會(huì)受到鑄件內(nèi)部不足之處的影響。通過射線膠片予以顯像記錄，或者通過熒光屏予以實(shí)時(shí)檢測(cè)觀察，或者通過輻射計(jì)數(shù)儀檢測(cè)穿過鑄件射出的輻射強(qiáng)度隨著不足之處大小、性質(zhì)的不同而有局部的變化，形成不足之處的射線圖像。其中通過射線膠片顯像記錄的方法是常用的方法，也就是通常所說的射線照相檢測(cè)，射線照相所反映出來的不足之處圖像是直觀的，不足之處形狀、大小、數(shù)量、平面位置和分布范圍都能呈現(xiàn)出來，只是不足之處一般不能反映出來，需要采取措施和計(jì)算才能確定?，F(xiàn)在出現(xiàn)應(yīng)用射線計(jì)算機(jī)層析照相方法，由于設(shè)備比較昂貴，使用成本高，目前還無法普及，但這種代表了高清晰度射線檢測(cè)技術(shù)未來發(fā)展的方向。此外，使用近似點(diǎn)源的微焦點(diǎn)X射線系統(tǒng)實(shí)際上也可較大焦點(diǎn)設(shè)備產(chǎn)生的模糊邊緣，使圖像輪廓清晰。使用數(shù)字圖像系統(tǒng)可提高圖像的信噪比，進(jìn)一步提高圖像清晰度。

二、鑄造廠表面及近表面不足之處的檢測(cè)

1、鑄造廠之渦流檢測(cè)

渦流檢測(cè)適用于檢查表面以下一般不大于6～7MM深的不足之處。渦流檢測(cè)分放置式線圈法和穿過式線圈法2種。如果鑄件表面存在不足之處，則渦流的電特征

會(huì)發(fā)生畸變，從而檢測(cè)出不足之處的存在，渦流檢測(cè)的主要缺點(diǎn)是不能直觀顯示探測(cè)出的不足之處大小和形狀，一般只能確定出不足之處所在表面位置和，另外它對(duì)工件表面上小的開口不足之處的

檢出靈敏度不如滲透檢測(cè)。當(dāng)試件被放在通有交變電流的線圈附近時(shí)，進(jìn)入試件的交變磁場(chǎng)可在試件中感生出方向與

激勵(lì)磁場(chǎng)相垂直的、呈渦流狀流動(dòng)的電流（渦流），渦流會(huì)產(chǎn)生一與激勵(lì)磁場(chǎng)方向相反的磁場(chǎng)，使線圈中的原磁場(chǎng)有部分減少，從而引起線圈阻抗的變化。

2、鑄造廠之磁粉檢測(cè)

磁粉檢測(cè)適合于檢測(cè)表面不足之處及表面以下數(shù)毫米深的不足之處，它需要直流（或交流）磁化設(shè)備和磁粉（或磁懸浮液）才能進(jìn)行檢測(cè)操作。磁化設(shè)備用來在鑄件內(nèi)外表面產(chǎn)生磁場(chǎng)，磁粉或磁懸浮液

用來顯示不足之處。當(dāng)在鑄件   范圍內(nèi)產(chǎn)生磁場(chǎng)時(shí)，磁化區(qū)域內(nèi)的不足之處就會(huì)產(chǎn)生漏磁場(chǎng)，當(dāng)撒上磁粉或懸浮液時(shí)，磁粉被吸住，這樣就可以顯示出不足之處來。這樣顯示出的不足之處基本上都是

橫切磁力線的不足之處，對(duì)于平行于磁力線的長條型不足之處則顯示不出來，為此，操作時(shí)需要不斷改變磁化方向，以能夠檢查出未知方向的各個(gè)不足之處。